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半导体行业被号称是二十一世纪科技界的皇冠，更是目前多项技术发展的基础。
其中光刻机是目前半导体行业之中精密度最高的仪器，设计到生产的难度是非常的巨大。
甚至光刻机之中的许许多多的固件，可不是一个国家能够生产出来的。
这些光刻机的零件不仅拥有着非常高的技术，对于生产的工艺也有非常大的要求。
除了光刻机的生产之外，光刻机的功力也同样是目前的家半导体厂商所冲击的方向。
而眼前所奖励的技术是完全和目前主流浸润式光刻机不同的光刻机技术。
所谓的光刻机用最简单的话就是仪器将光缩减到直径为纳米级别的光束，然后靠着光速在半导体材料晶圆上进行雕刻。
目前光刻机生产最大的阻碍就是96纳米，毕竟在96纳米之后人们想要将光束缩小，再进行对于晶圆的雕刻已经是非常困难了。
哪家半导体公司能够率先的解决这个问题，那么就将领导接下来半导体行业的发展。
最终阿斯麦和台基电最终找到了办法。
没错这个办法就是浸润式光刻机。
96纳米光束在接触到液体之后进行折射和反射，通过无数次的接触液体，最终削减光束的直径，从而达到最终是28纳米，甚至是更低的直径。
现在目前台基电基本上已经完全的掌握了5纳米的光刻机生产工艺，并且开始向3纳米的制程工艺进发。
而这一次系统奖励的光刻机的技术基本上是和目前的阿斯麦所生产的光刻机完全不同的产物。
完完全全是经过精密的仪器计算，生产出能够直射出5纳米光束的光刻机。
这种生产出来的光刻机，最终在投入生产之后，做生产的成本要相较于浸润式光刻机要低了许多。
毕竟浸润式光刻机需要耗费大量的水资源，同时由于光折射了水产生了大量的能量，这需要通风散热来保持产房的温度。
而眼下所奖励的这种生产的光刻机模式，显然在生产成本方面要低于目前的浸润式光刻机，但是制造的难度和仪器的精密程度要远远的高出浸润式光刻机。
甚至看着眼前所奖励的制造工艺技术
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